氨氣純化裝置產品特點：

● 原理簡單，結構合理，能耗低

● 氣體指標穩定，雜質含量低
● 可選配自動系統，實現無人值守
● 與氨分解裝置配套使用，亦可用于其它氣體的變溫吸附干燥

氨氣純化裝置技術指標：

● 壓力—— 0.1~ 0.5Mpa(跟進需求壓力可調節)

● 常壓露點——≤－60℃

● 處理氣量—— 3~ 500Nm3/hr

     利用分子篩在不同溫度下對水吸附量不同的原理，通過常溫工作，加熱再生得到干燥的氨氣。生產高純氨的基本原理是是以工業一等品液氨(液氨等級劃分見表2)為原料，利用各種純化凈化手段生產高純氨。采用的純化方法視工業氨中所含雜質的種類、數量、性質和其最終所要達到的純度而定。一般氨中雜質的種類和數量主要有：油份、烴類、H20、02、Ar、N2、H2、CO和CO2等。

      純化技術:對應用于半導體領域的高純氣體純度要求*,特別是影響半導體材料生長的氧、水以及其它雜質含量必須達到ppm-ppb級.我們針對原料氣體的雜質含量、理化性質,以高效吸附和高效精餾為主要純化方法，重點選擇選擇性好、吸附容量大、純化深度高的新型吸附劑、高性能催化劑，具有吸附和催化兩種功能，雜質脫除達到使用要求。本工藝特別宜于規?；a。